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日本shinkuu實驗室多金屬全自動濺射鍍膜儀 裝置概述 類型：多功能簡易操作型磁控濺射裝置，適用于多種金屬的薄膜制備。 特點： 小型桌面型設計，占用空間小。 低電壓涂層，樣品采用浮動式設計，可減少樣品損傷。 配備觸摸屏操作面板，支持配方功能，可實現全自動濺射成膜。
2025-10-22
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68
日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀 專為掃描電子顯微鏡（SEM）觀察用貴金屬薄膜涂層設計，用于防止SEM樣品的充電效應，提高二次電子的產生效率。 低電壓放電：采用磁控靶電極進行低電壓放電，結合浮動式樣品臺，減少電子束對樣品的損傷。 操作簡便：只需按下按鈕即可自動進行涂層處理，操作簡單，任何人都可以輕松操作。
2025-10-22
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46
日本Hisol離子濺射設備表面涂覆抗靜電涂層 G20 該臺式濺射設備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層，例如對非導電樣品進行 SEM 觀察時。
2025-05-07
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