凱爾克kelk化學溶液恒溫循環(huán)器控制器半導體

凱爾克kelk化學溶液恒溫循環(huán)器控制器半導體 RX-610-R

濕法工藝的直接循環(huán)化學恒溫裝置，具有在線冷卻和加熱裝置，不會造成金屬離子洗脫和污染。

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凱爾克kelk化學溶液恒溫循環(huán)器控制器半導體 RX-610-R 特點介紹

濕法工藝的直接循環(huán)化學恒溫裝置，具有在線冷卻和加熱裝置，不會造成金屬離子洗脫和污染。

KELK的化學循環(huán)器能夠高精度地控制RCA清洗和濕法蝕刻中使用的藥液溫度，作為半導體制造濕法工藝中的設備，得到了廣泛的喜愛。

為了響應近年來使用藥液的多樣化、高兆位化帶來的清潔度提高的要求，進一步進行了更新。（注）作為高溫藥液用，建議使用CS加熱器。

冷卻加熱部的傳熱接液部件使用高純度的玻璃狀碳，無需擔心溶出金屬離子造成的污染，也不需要表面保護膜，也不會因剝離而降低能力。

由于橡膠O型圈不直接接觸液體的密封結(jié)構(gòu)，因此無需選擇酸性液體、堿性液體等每種藥液的密封材質(zhì)。

由于采用電子冷熱方式，因此適用于室溫附近的溫度控制且精度高。

本裝置符合國際保護標準IP31.

裝置內(nèi)置檢測藥液和冷卻水泄漏的漏液傳感器、檢測異常溫度的溫度開關，因此您可以放心使用。

凱爾克kelk化學溶液恒溫循環(huán)器控制器半導體 RX-610-R 特點介紹

半導體制造濕法工藝中使用的藥液的溫度管理

●RCA清洗液

●蝕刻液

●光刻工序顯影液

其他領域中的各種藥液的溫度管理

●不能使用電鍍液、各種表面處理液、其他（注）含有臭氧的藥液。

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