日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進口 LM-1000/PM-H1000/PM-L1000 特征介紹

由于不使用任何介質，也沒有高壓密封件（消耗品和磨料），因此污染極少。

由于強大的沖擊波在短時間內施加到液滴上，因此對顆粒的損傷很小。

液滴化的漿料以超音速與碰撞板碰撞，從而可以將顆粒研磨至比空氣噴射磨更細的粒徑。

漿料流路很寬，因此即使是大顆粒也可以注射而不會堵塞。

日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進口 LM-1000/PM-H1000/PM-L1000 規格參數

材料G粉碎機的特點傳統技術的問題

金屬

（鎳、銀、銅、鐵、鈷等）通過無損傷和

無堵塞冷卻

抑制氧化變形

、發熱

引起的氧化

復合顆粒無損傷顆粒開裂和

涂層剝落

磁粉無損傷由于損壞而導致磁力降低

氧化鈦/二氧化硅無污染污染/設備磨損

吞吐量3～10.8L/h

（流量根據漿料運動粘度、比重、分散狀態而變化）

設備外形尺寸650（寬） ? 650（后） ? 965（高）毫米

設備重量約100公斤

氣壓/所需流量0.6MPa?0.5?/min

（使用壓縮機潔凈空氣）

吞吐量

4.8～30L/h

（流量根據漿料的運動粘度、比重、分散狀態而變化。）

設備外形尺寸

1200（寬） ×850（后）×2050（高）mm

設備重量

約400公斤

氣壓/所需流量

0.6MPa?1.5?/分鐘

（使用壓縮機潔凈空氣）